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IMEC和KMLabs合作研發出一種新型EUV光源，有助於解決困擾7奈米和光刻膠的棘手材料問題

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IEEE中國極紫外光刻技術是摩爾定律的潛在救星，已經出現了很長時間了。十多年前，相關路線圖提出EUV的時代將於2011年到來。直到去年，它才終於開始起飛。EUV

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